Ieri, presso l’Università Tecnica della Georgia si è svolta la “Giornata della Dante”, uno tra i più importanti eventi di promozione della lingua e cultura italiana, celebrato ormai da 120 anni in tutto il mondo.
Alla presenza di numerosi ospiti dell’evento organizzato dal Comitato della Società Dante Alighieri di Tbilisi e dall’Università Tecnica della Georgia, con il sostegno dell’Ambasciata d’Italia in Georgia, sono intervenuti il Rettore dell’Ateneo, Davit Gurgenidze, l’Ambasciatore d’Italia, Enrico Valvo, la Presidente del Comitato della Società Dante Alighieri di Tbilisi, Nino Tsertsvadze, e il rappresentante della Società Dante Alighieri, Alessandro Salacone. Nel suo intervento, l’Ambasciatore Valvo ha sottolineato l’assoluta rilevanza delle relazioni culturali, nel contesto dell’attuale fase di crescita a tutto campo dei rapporti bilaterali italo-georgiani, esprimendo apprezzamento e gratitudine per le iniziative sviluppate congiuntamente dal Comitato della Società Dante Alighieri di Tbilisi e dall’Università Tecnica della Georgia per l’insegnamento e la divulgazione della lingua italiana.
All’evento sono stati illustrati l’attività del Comitato della Società Dante Alighieri di Tbilisi e i risultati raggiunti nell’arco di quest’ultimo anno, quali l’adesione alla piattaforma Dante.global e la messa in funzione di un’aula ibrida, previste dal Memorandum di Cooperazione firmato tra il Comitato della Società Dante Alighieri di Tbilisi e l’Università Tecnica della Georgia per favorire ulteriormente la promozione e l’insegnamento del patrimonio linguistico italiano in Georgia.
L’Ambasciatore Valvo ha consegnato gli attestati ADA agli studenti e ai docenti dell’Università Tecnica della Georgia che hanno usufruito dei corsi gratuiti di formazione linguistica italiana.
A concludere la “Giornata della Dante” al pubblico è stato proposto il film documentario, “Dante, l’esilio di un poeta”, sottotitolato in georgiano grazie al contributo dell’Ambasciata, che rende omaggio al Sommo Poeta ripercorrendo le vie del suo esilio.